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C-Papers (2)

2008
  • 1. 一种连续膜金属光栅的异常反射和透射特性. 光电子.激光, 2008, 06
  • 2. 表面阳极氧化铝结构对ZnO薄膜探测器的响应增强. 光电子.激光, 2008, 04



Patents (4)

  • 1. 一种可集成窄带微型滤光器
  • 【Application Number】
  • CN201510026670.5
  • 【Application Date】
  • 2015-01-20
  • 【Patent Number】
  • CN104570184B
  • 【Publication Date】
  • 2016-12-28
  • 【Inventors】
  • 孙志军
  • 【Abstract】
  • 一种可集成窄带微型滤光器,涉及一种滤光器。设有衬底、介质薄膜层结构和金属光栅;介质薄膜层结构设于衬底上表面,介质薄膜层结构设有至少2层介质薄膜层,每层介质薄膜层的折射率不同,金属光栅设于介质薄膜层结构上表面,金属光栅为一维金属光栅或二维金属光栅。通过调节光栅周期、介质薄膜层折射率和厚度,可以调节滤光器通带的中心波长和带宽。具有较小尺寸,有利于在微光学系统和光电器件中集成应用。用于集成微光学系统、或被集成在光电器件中实现滤光功能。可以制作在透明介质衬底上,做为单元器件在微光学系统中使用,也可以集成在光电器件中做为一个结构单元,对光电器件所发射光实现滤光功能。
  • 2. 一种阵列式微谐振腔可调集成光学滤波器
  • 【Application Number】
  • CN200810070878.7
  • 【Application Date】
  • 2008-04-09
  • 【Patent Number】
  • CN100575998C
  • 【Publication Date】
  • 2009-12-30
  • 【Inventors】
  • 孙志军
  • 【Abstract】
  • 一种阵列式微谐振腔可调集成光学滤波器,涉及一种光学滤波器。提供一种基于目前平 面微纳加工工艺可实现的阵列式微谐振腔可调集成光学滤波器。设有衬底,衬底上设下层金 属薄膜,在下层金属薄膜上设介质层,在介质层中间镶嵌金属光栅层,在介质层上设上层金 属薄膜。金属光栅层设若干阵列单元,在不同的阵列单元内金属光栅的周期不同。因在衬底 上的两层金属薄膜之间夹一层镶嵌有金属光栅的介质层,在芯片平面的不同集成单元内金属 光栅具有不同的周期,从而调节了不同单元内的等效折射率。当光波通过这种阵列式微谐振 腔可调集成光学滤波器时,不同的阵列单元具有不同的谐振波长,于是在谐振波长附近的一 定波谱宽度内形成一个透射通带,起到滤波作用。
  • 3. 一种面向集成光路的长程表面等离激子波导及其制造方法
  • 【Application Number】
  • CN200710009307.8
  • 【Application Date】
  • 2007-07-30
  • 【Patent Number】
  • CN100478717C
  • 【Publication Date】
  • 2009-04-15
  • 【Inventors】
  • 孙志军
  • 【Abstract】
  • 一种面向集成光路的长程表面等离激子波导及其制造方法,涉及一种集成光波导。提供 一种基于金属微纳结构的垂直型面向集成光路的长程表面等离激子波导及其制造方法。面向 集成光路的长程表面等离激子波导设有衬底,在衬底上设有垂直竖立的金属层,在金属层两 侧分别设有一介质层,形成介质层—金属层—介质层3层结构。在衬底上制备支撑材料层, 将支撑材料层刻蚀成一个断面垂直的台阶;在台阶断面连续淀积介质层、金属层和介质层。 去除支撑材料,得面向集成光路长程表面等离激子波导。也可在介质层—金属层—介质层3 层结构的外侧淀积外介质层材料,即得另一种集成光路长程表面等离激子波导。
  • 4. 一种基于金属微纳米结构的光学分束器及其制造方法
  • 【Application Number】
  • CN200610111316.3
  • 【Application Date】
  • 2006-08-21
  • 【Patent Number】
  • CN100403076C
  • 【Publication Date】
  • 2008-07-16
  • 【Inventors】
  • 孙志军
  • 【Abstract】
  • 一种基于金属微纳米结构的光学分束器及其制造方法,涉及一种光学分束器,提供一种基于金属微纳米结构的光学分束器及制法。设有衬底,衬底上淀积金属薄膜,薄膜上设有至少2条宽度不同且平行的纳米缝隙,纳米缝隙正上方设金属柱,金属柱与金属薄膜间设支撑件。制造时在衬底上制备金属薄膜;用聚焦离子束刻蚀加工法,或在薄膜上涂电子束曝光胶后曝光,显影去掉被曝光的胶,以曝光胶为掩膜版制成纳米缝隙;在纳米缝隙上方制备金属柱:将金属柱制作为悬梁,两端设支撑件,或设在薄膜上方淀积作为支撑物的材料,在此材料上用电子束光刻与反应离子刻蚀或化学腐蚀的方法形成槽,在槽中淀积金属柱所用的材料,将支撑件材料腐蚀掉;制备支撑件。

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